软膏剂药物基质高速均质混合机

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软膏剂药物基质高速均质混合机

软膏剂药物基质高速均质混合机基本介绍
软膏剂药物基质高速均质混合机，软膏剂眼膏剂真空均质机，管线式无菌膏剂胶体磨，立式高速胶磨均质机实用新型多功能均质机，ikn高速纳米均质机，小型中试医用膏剂均质机 ， 溶液型软膏剂均质机；混悬型软膏剂均质机；③乳剂型软膏剂均质机 的料液在挤压，强冲击与失压膨胀的三重作用下使物料细化，从而使物料能更均匀的相互混合，均质是一相(液体、固体、气体)进入到另一互不相溶的连续相(通常液体)的过程。当外部能量输入时，两种物料重组成为均一相。当其中一种或者多种材料的细度达到微米数量级时，体系可被认为均质， 。 
软膏剂药物基质高速均质混合机性能特点
软膏剂系指药物与适宜基质均匀混合制成的具有适当稠度的半固体外用制剂。

软膏剂分类：

v1．按药物在基质中分散状态不同，软膏剂的类型可分为三类： v①溶液型软膏剂；②混悬型软膏剂；③乳剂型软膏剂。 

v2．按基质的性质和特殊用途，软膏剂的类型分为： v①油膏剂；②乳膏剂； ③凝胶剂；④糊剂； ⑤眼膏剂。

v3．按软膏中药物作用的深度和广度，软膏剂的类型分为： v①仅作用于皮肤表面的软膏剂 v②透过表皮，在皮肤内部发挥作用的软膏剂 v③透过皮肤，吸收后入体循环发挥全身治疗作用的软膏剂 v

软膏剂药物基质高速均质混合机技术参数
目前XX市场上大多数的均质机厂家生产出来的乳化机转速只能达到3000rpm左右，当然我所说的都是指工业化的均质机。对于实验室小型乳化机，由于电机（220V），轴等因素转速可达30000rpm左右，但是这种实验室均质机无法对应放大到生产中，所以在这里不做讲诉。
                                      

在线式高速均质机优点

1  ERS2000系列作为一个用于混合分散工艺的设备,其具有连续式性操作,因此也被称作连续式速混合均质机,能够更好满足大批量连续化生产作业要求.与传统的批次均质机相比具有以下优势

 

1乳化均质:批次均质机在进行均质前往往需要预搅拌,在其基础上才能实现较好的分散乳化均质混合效果.因此所需要时间更多,产量更小.适用于不连续生产或者产量较小的生产.而连续式均质机可以直接进行投料,更短时间能够实现混合分散均质的颗粒经的要求.产量大,适用于连续式生产,产量更大的情况.

 

2 均质效果好：批次分散均质机安装在罐体内，物料与乳化头较松散，工作时依靠强大的吸力使物料进入分散头中，但在分散均质过程中，存在部分物料逃逸的情况，混合均质颗粒经分布较宽，此外批次均质机的分散头为单层结构。不能实现足够小的颗粒经要求。而连续式乳化机由于乳化腔体内部设计足够小，均质头与物料紧密接触，剪切充分，同时乳化腔体设计成多层转定子咬合结构，优化粗齿结构，可以满足混合乳化的颗粒经分布较窄，效率更高

 

3 技术功能指标更高：ERS2000系列管线式均质机和批次均质机比较在相同的马达情况下，转速有明显优势，ERS2000转速可以达到14000RPM，可以在更短的恶时间内处理更多符合要求的物料，能够为大批量生产的企业实现生产过程的成本降低。

传统的批次均质机用于研发，效果或许可以达到要求，但是摸索出来的设备参数完全不可用，批次的均质机无法线性放大，所以后期工业化生产就需要重新摸索参数，这样会导致效率低、风险大。         

IKN小试均质机ER2000/4可用于小试研发，以及中试验证。处理量可从2L-300L，充分满足研发的需求和中试的验证。IKN均质机设备都是线性放大，小试设备和工业化设备效果一致，小试摸索的参数可直接放大到工业化生产用。

软膏剂药物基质高速均质混合机使用说明
IKN软膏剂药物基质高速均质混合机适合用于各类容器，可以在各不同容器上进行立的完成，也能够配用移动式或者固定式的支架上进行非常好的混和、分散、超细化研磨、均质、反应等工艺过程，物料在处理的间歇，能够做非常的清洗工作。研磨分散机的基料的分散还有研磨能够在一个容器里面，使用一台机器进行完成;分散机不需额外的泵、管道、阀门还有容器等;分散机非常的封边清洗、而且物料的残留也非常的少，十分的方便更换产品;分散机的研磨的介质的添加的量非常的小;研磨分散机拥有双壁的研磨篮、双壁的拉缸，还能够对物料进行冷却或者是加热。



 

IKN研磨输送型高速均质机是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质的物料。我们将三级高剪切均质分散机进行改装，我们将三级变跟为，然后在分散头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。磨头下面的胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种分散头供客户选择）。

 

在制药，食品和精细化工行业中实现均匀的粒度分布和解聚集分散，帮助能够减少或规避资本支出，同时提供改进的成品。IKN研磨分散机采用了二级处理结构，第yi级采用了高剪切研磨分散机的磨头模块，第二级采用了高剪切分散乳化机的分散乳化模块。第二级模块可根据客户对物料的处理要求开配定转子，定转子可配2P、2G、4M、6F、8SF，（2P剪切力弱，为粗齿，8SF剪切力强，为超细齿）且定转子经密度都达到了guo际领xian水平。IKN研磨分散机已通过数千种应用进行了改进，可提供可靠的可扩展性，可重复性和性能。我们新的设计融合了许多创新，提供更多应用多功能性，更易于清洁和维护。

 

砂磨机：锆珠易损，引入杂质，更换维修成本高；

国内胶体磨/研磨机/分散机：转速普遍2930rpm，不超过3000rpm，作用力弱，粉碎研磨细度不够，浆料稳定性差；

德国IKN研磨分散机（改进型胶体磨/改进型分散机）：转速范围9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更强，粒径更小，分布范围更窄，浆料稳定性更好。产生均匀的尺寸减小率并产生窄的，一致的和可重复的粒度分布。

 

研磨均质机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW

 
CMD   2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

CMD   2000/5

5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMD   2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMD   2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMD   2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMD   2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到大允许量的10%。

 

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。


 

 

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