磁控溅射真空镀膜机NSC-4000（M）磁控溅射系统那诺-马斯特
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更新时间：2025-03-26 10:31:03 信息编号：ed2649mfkcd668

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关键词：
磁控溅射仪,磁控溅射设备,磁控溅射镀膜机,磁控溅射

张经理

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详情介绍

磁控溅射真空镀膜机NSC-4000（M）磁控溅射系统那诺-马斯特

产品别名

磁控溅射,磁控溅射镀膜机,磁控溅射设备,磁控溅射仪

面向地区

全国

电镀位置

其它

NSC-4000（M）磁控溅射系统概述：带有水冷或者加热(可加热到700度)功能，可达8"旋转平台，可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000磁控溅射镀膜机带有13”铝质腔体，4个2”的磁控管，DC直流和RF射频电源。在选配方面，我们提供不锈钢腔体，500 l/s涡轮分子泵，额外的磁控管和衬底加热功能。

NSC-4000（M）磁控溅射系统产品特点：

不锈钢，铝质腔体

260或500 l/s的涡轮分子泵，串接机械泵或干泵

13.56MHz，300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源

晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率

带观察视窗的腔门易于上下载片

基于LabView软件的PC计算机控制

带密码保护功能的多级访问控制

完全的安全联锁功能

NSC-4000（M）磁控溅射仪选配项：

不锈钢腔体

热蒸镀能力

RF、DC溅射

RF或DC偏压（1000V）

样品台可加热到700°C

膜厚监测仪

基片的RF射频等离子清洗

预真空锁以及自动晶圆片上/下载片

NSC-4000（M）应用：

晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆

光学以及ITO涂覆

带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆

带RF射频等离子放电的反应溅射

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