产品别名 |
新型硅碳CVD炉,CVD炉,CVD碳包覆炉,硅基负极炉 |
面向地区 |
全国 |
电镀位置 |
普通喷镀 |
该设备是一款应用于新型硅碳，硅氧碳，碳纳米管制备的CVD炉，具备高密封和均匀性，可连续式生产。
设备特点：
(1)该使用温度低于1000度
(2)该设备为连续式设备
(3)该设备为全密封结构
(4)该设备生产过程保护气体消耗量小
(5)该设备可以控制物料在炉内的停留时间
(6)该设备可以在一种或多种气氛下烧结
(7)该设备可以实现气相沉积烧结(CVD法制备硅碳)
(8)该设备炉管材料可以选择金属或非金属制作
(9)该设备温控精度高(≤2℃)
(10)该设备可以直接测试物料的温度
(11)该设备温控采用PLC+PID方式
(12)该设备的炉衬全部选用轻质耐火材料
(13)该设备产量大，能耗低，占地面积小
