分散剂hpma,弱酸

HPMA一般相对分子量为400～800，，易溶于水，化学稳定性及热稳定性高，分解温度在330℃以上。HPMA适用于碱性环境。由于HPMA阻垢性能和耐高温性能，因此在海水淡化的闪蒸装置中和低压锅炉及工业循环冷却水中得到广泛使用。另外HPMA有一定的缓蚀作用，与锌盐复配缓蚀效果更好。
HPMA还可用于水泥外加剂，盐碱土壤改良剂。
二、技术指标
项 目 指 标
GB/T 10535-2014
外 观 浅黄色至棕红色透明液体
固体含量/% ≥50.0
pH值(1%水溶液) 2.0～3.0
密度(20℃)/g·cm-3 1.22-1.25
溴值/mg·g-1 ≤50.0
三、使用方法
HPMA单使用时一般使用浓度为1-15mg/L，常与有机膦酸盐复合，用于循环冷却水处理及低压锅炉的炉内处理，具有良好的抑制水垢生成和剥离老垢的作用，阻垢率可达98%，EDTMPS与HPMA按1:3比例复配后，可用于低压锅炉炉内水处理；HPMA与锌盐复配时，能有效地防止碳钢的腐蚀。
四、安全与防护
HPMA为酸性，操作时注意劳动保护，应避免与皮肤、眼睛等接触，接触后用大量清水冲洗。
五、包装与储存
HPMA为塑料桶包装，每桶25kg或由用户确定。贮存期为十二个月。

阻垢剂阻垢机理的匹配模型的研究较少，且已有 的研究对象主要是氨基甲叉三膦酸(ATMP，分子质量299)、羟基乙叉二膦酸(HEDP，分子质量206)等含 膦基团的简单分子，只需采用密度泛函理论即可较方便地得到这些分子的佳构型和相关参数，如Zahid 等研究了HEDP、ATMP 和PBTCA 等几种有机膦系小分子阻垢剂的结构与阻Ca3(PO4)2 的关系，提出 了匹配模型理论，而对于T-225(分子中含有羧酸基团、酯基基团)、AA-AMPS(分子中含羧酸基团、磺酸 基团和酰胺基团)、POCA(分子中含有膦酰基基团、羧酸基团、磺酸基团和酰胺基团)等相对分子质量在2000 以上、分子中含有多种官能团的聚合物阻垢分散剂，其模型构建较为复杂，因此关于它们的微观分 子结构与阻垢分散性能之间的关系研究未见报道

采用静态阻垢法评估了几种聚合物对碳酸钙垢和硫酸钙垢的阻垢性能，结果分别见图1 和图2。 由实验结果可以看出，几种聚合物对CaCO3 和CaSO4垢均具有较好的抑制作用；随加药浓度的增大， 聚合物对两种无机垢的抑制作用增强。对于阻CaCO3垢，HPMA 的抑制能力较强，其次是PAA，T-225 的性能与PAA相当，POCA与AA-AMPS 共聚物性能相当，较PAA 差。对于阻CaSO4 垢，POCA 和AA-AMPS在低浓度时就表现出良好的抑制作用，性能好，其次是T-225，当加药量大于10mg/L后HPMA 的性能与T-225相当，PAA的性能相对比HPMA 差。该实验结果与循环水系统现场实际使用效 果是一致的。

HPMA 分子中有多个氧原子对的间距与方解石{104}、{102}及{001}晶面上近邻钙离子对的间 距接近，且聚合物分子本身又具有一定的柔性，所以分子中的多个羧基氧原子都极易成为阻垢剂与晶面 作用的吸附位，从而能有效地阻止这些晶面的继续生长，或使晶格发生扭曲畸变而生成松软的垢，易于 被水流冲走，达到阻垢效果。PAA、T-225分子中有三对氧原子对的间距与方解石晶面上的近邻钙离 子对的间距接近，从原子对匹配效果来看，三种聚合物分子均为CaCO3 垢良好的阻垢剂，其中HPMA 的吸附位多，匹配效果好，对CaCO3 的阻垢效果好。大量实验也证实，HPMA 中羧酸基团的密 度较高，有利于提高对CaCO3 的抑制作用。

几种聚合物中均有氧原子对的空间距离接近0.8nm，与二水硫酸钙的（110）晶面的近邻钙离子对的间距接近，因此这几种聚合物对二水硫酸钙都有一定的抑制能力，比较吸附位的数目和匹配效果， POCA 和AA-AMPS共聚物对硫酸钙的抑制效果好。理论计算结果与实际评价的结论是一致的。

聚丙烯酸(简称PAA)—水解聚马来酸酐(简称HPMA)是一种新型的复合阻垢剂,具有阻垢效果佳、热稳定性好等优点。运用静态阻垢法,通过改变PAA和HPMA的用量,本文通过一步沉淀法,分别研究了在水体系和不同比例原油乳液体系中,0.5代聚酰胺-胺(G0.5 PAMAM)、聚丙烯酰胺(HPAM)以及重烷基苯磺酸盐(HABS)对碳酸钙的结晶行为的影响,探讨了添加剂在溶液中与成垢离子之间的相互作用以及与晶体之间的相互作用