水解聚马来酸酐hpma,含量20

HPMA一般相对分子量为400～800，，易溶于水，化学稳定性及热稳定性高，分解温度在330℃以上。HPMA适用于碱性环境。由于HPMA阻垢性能和耐高温性能，因此在海水淡化的闪蒸装置中和低压锅炉及工业循环冷却水中得到广泛使用。另外HPMA有一定的缓蚀作用，与锌盐复配缓蚀效果更好。
HPMA还可用于水泥外加剂，盐碱土壤改良剂。
二、技术指标
项 目 指 标
GB/T 10535-2014
外 观 浅黄色至棕红色透明液体
固体含量/% ≥50.0
pH值(1%水溶液) 2.0～3.0
密度(20℃)/g·cm-3 1.22-1.25
溴值/mg·g-1 ≤50.0
三、使用方法
HPMA单使用时一般使用浓度为1-15mg/L，常与有机膦酸盐复合，用于循环冷却水处理及低压锅炉的炉内处理，具有良好的抑制水垢生成和剥离老垢的作用，阻垢率可达98%，EDTMPS与HPMA按1:3比例复配后，可用于低压锅炉炉内水处理；HPMA与锌盐复配时，能有效地防止碳钢的腐蚀。
四、安全与防护
HPMA为酸性，操作时注意劳动保护，应避免与皮肤、眼睛等接触，接触后用大量清水冲洗。
五、包装与储存
HPMA为塑料桶包装，每桶25kg或由用户确定。贮存期为十二个月。

别名:聚马来酸
结构式:
一、产品性能
在高温(<350℃)和高PH下有明显的溶限效应。HPMA适用于碱性水质或同其它药物复配使用。HPMA在300℃以下对碳酸盐仍有良好的阻垢分散效果，阻垢时间可达100h。由于HPMA阻垢性能和耐高温性能，因此在海水淡化的闪蒸装置中和低压锅炉、蒸汽机车、原油脱水、输水输油管线及工业循环冷却水中得到广泛使用。另外HPMA有一定的缓蚀作用，与锌盐复配效果更好。
HPMA还可用于水泥外加剂，EDTMPSHPMA与EDTMPS按3:1比例复配后，可用于低压锅炉炉内水处理。

阻垢剂是一些有机合成聚合物（比如聚丙烯酸、羧酸、聚马来酸、有机金属磷酸盐、聚膦酸盐、膦酸盐、阴离子聚合物等），这些聚合物的分子量在2000－10000道尔顿不等。反渗透系统阻垢剂技术由冷却循环水和锅炉用水化学演变而来。对为数众多各式各样的阻垢剂，在不同的应用场合和所采用的有机化合物所取得的效果和效率差别很大。

采用聚丙烯酸类阻垢剂时要特别小心，在铁含量较高时可能会引起膜污染，这种污染会增加膜的操作压力，有效清除这类污染要进行酸洗。

阻垢剂阻垢机理的匹配模型的研究较少，且已有 的研究对象主要是氨基甲叉三膦酸(ATMP，分子质量299)、羟基乙叉二膦酸(HEDP，分子质量206)等含 膦基团的简单分子，只需采用密度泛函理论即可较方便地得到这些分子的佳构型和相关参数，如Zahid 等研究了HEDP、ATMP 和PBTCA 等几种有机膦系小分子阻垢剂的结构与阻Ca3(PO4)2 的关系，提出 了匹配模型理论，而对于T-225(分子中含有羧酸基团、酯基基团)、AA-AMPS(分子中含羧酸基团、磺酸 基团和酰胺基团)、POCA(分子中含有膦酰基基团、羧酸基团、磺酸基团和酰胺基团)等相对分子质量在2000 以上、分子中含有多种官能团的聚合物阻垢分散剂，其模型构建较为复杂，因此关于它们的微观分 子结构与阻垢分散性能之间的关系研究未见报道

HPMA 分子中有多个氧原子对的间距与方解石{104}、{102}及{001}晶面上近邻钙离子对的间 距接近，且聚合物分子本身又具有一定的柔性，所以分子中的多个羧基氧原子都极易成为阻垢剂与晶面 作用的吸附位，从而能有效地阻止这些晶面的继续生长，或使晶格发生扭曲畸变而生成松软的垢，易于 被水流冲走，达到阻垢效果。PAA、T-225分子中有三对氧原子对的间距与方解石晶面上的近邻钙离 子对的间距接近，从原子对匹配效果来看，三种聚合物分子均为CaCO3 垢良好的阻垢剂，其中HPMA 的吸附位多，匹配效果好，对CaCO3 的阻垢效果好。大量实验也证实，HPMA 中羧酸基团的密 度较高，有利于提高对CaCO3 的抑制作用。

水解聚马来酸酐在循环水处理过程中,一般添加适用于反渗透系统水质条件下的阻垢剂来控制水垢的形成。因此,、的反渗透膜用阻垢剂的研制,对反渗透技术处理循环水的实验研究具有重要的实际应用价值。依据绿色化学的原则,选择具有五个碳的二羧酸—衣康酸(IA),与甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA)、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸(AMPS)为共聚单体,采用水溶液为反应机制,分子量调节剂选用叔丁醇,引发剂选用过硫酸钾,以自由基聚合法共聚合成,得到适用于反渗透膜工艺的羧酸型共聚物IA-HEMA-AMPS。通过单因素实验和正交实验,优化聚合反应的条件,实现目标产物的能、低能耗和反应过程的无废化