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纳米级硅溶胶用于电子蓝宝石CMP研磨氧化硅抛光液

更新时间：2024-04-26 17:13:14 信息编号：702ti0fii4270c
纳米级硅溶胶用于电子蓝宝石CMP研磨氧化硅抛光液
￥9≥ 1千克

  • 9.00 元

  • 其它

  • 25kg/桶

  • 二氧化硅水溶液,抛光液,硅溶胶

李艳清

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纳米级硅溶胶用于电子蓝宝石CMP研磨氧化硅抛光液

产品别名
抛光液,研磨液,硅溶胶,二氧化硅水溶液
面向地区
品牌
其它
包装规格
25kg/桶
用途、使用范围
抛光液
CAS
其它
硅溶胶广泛用作3C产品和晶圆、芯片、半导体等精密电子元器件生产的研磨材料。硅溶胶的超细胶粒能够有效地抛光表面，确保平整度，同时小化表面缺陷。

磨料载体：
硅溶胶作为磨料的主要载体，在抛光过程中提供磨料的分散和固定，并在抛光过程中释放磨料以实现材料的研磨和去除。

控制抛光速度：
硅溶胶的粒径分布可以影响抛光速度和表面质量。通过调整硅溶胶的粒径及相关参数，可以实现对抛光速度的 控制，提高生产效率。

表面质量改善：
硅溶胶胶粒的细小尺寸有助于填补微小的表面缺陷，提高抛光的表面质量。它能够平滑表面、去除划痕和瑕疵，实现更光滑和均匀的表面。

控制抛光压力：
硅溶胶作为抛光液中主要成分，可以调节抛光液的黏度和流动性，从而控制抛光时的压力。适当的抛光压力有助于提高抛光的速率，同时避免划伤或其他抛光缺陷，实现抛光效率和抛光质量的平衡。

热稳定性：
硅溶胶具有良好的热稳定性和耐热性，它能够在研抛过程中保持研抛介质温度的基本稳定，减少热应力对设备和产品的影响，并提供持久的抛光性能。

优势：
1.纯度硅溶胶以降低污染和表面缺陷的风险

2.大胶粒尺寸的硅溶液以实现更好的抛光速度并产品的表面质量
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