分散剂hpma,棕红色

阻垢剂是一些有机合成聚合物（比如聚丙烯酸、羧酸、聚马来酸、有机金属磷酸盐、聚膦酸盐、膦酸盐、阴离子聚合物等），这些聚合物的分子量在2000－10000道尔顿不等。反渗透系统阻垢剂技术由冷却循环水和锅炉用水化学演变而来。对为数众多各式各样的阻垢剂，在不同的应用场合和所采用的有机化合物所取得的效果和效率差别很大。

采用聚丙烯酸类阻垢剂时要特别小心，在铁含量较高时可能会引起膜污染，这种污染会增加膜的操作压力，有效清除这类污染要进行酸洗。

一家集研发、生产和销售为一体的规模化水处理药剂生产商，公司自设立以来，主营业务一直为水处理药剂的研发、生产和销售。
公司是国内少数大规模生产水处理药剂的厂家之一，自主研发了水处理药剂连续化制备工艺关键技术，改变了传统的间歇式单釜操作生产方式。在聚合物生产中，通过水相有机合成技术，不使用有机溶剂，提升了产品收率及质量，降低了产品能耗，减少了挥发性有机化合物排放，实现了产品的绿色合成。
公司产品有阻垢缓蚀剂、阻垢分散剂、杀菌灭藻剂、螯合剂、粘泥剥离剂、清洗预膜剂、除氧剂、反渗透阻垢剂、清洗剂以及杀菌剂等，可以满足多样化水处理化学药剂的需求。
公司产品主要包括3大系列60余种，其中HPMA、PASP、PESA、PAA、PAAS、AA-AMPS、1227和快速渗透剂T等为主要的不含磷水处理药剂，其他产品属于含磷药剂。

阻垢剂阻垢机理的匹配模型的研究较少，且已有 的研究对象主要是氨基甲叉三膦酸(ATMP，分子质量299)、羟基乙叉二膦酸(HEDP，分子质量206)等含 膦基团的简单分子，只需采用密度泛函理论即可较方便地得到这些分子的佳构型和相关参数，如Zahid 等研究了HEDP、ATMP 和PBTCA 等几种有机膦系小分子阻垢剂的结构与阻Ca3(PO4)2 的关系，提出 了匹配模型理论，而对于T-225(分子中含有羧酸基团、酯基基团)、AA-AMPS(分子中含羧酸基团、磺酸 基团和酰胺基团)、POCA(分子中含有膦酰基基团、羧酸基团、磺酸基团和酰胺基团)等相对分子质量在2000 以上、分子中含有多种官能团的聚合物阻垢分散剂，其模型构建较为复杂，因此关于它们的微观分 子结构与阻垢分散性能之间的关系研究未见报道

有机阻垢剂分子中呈负电性的功能基团可能会与难溶钙盐表面上带有正电的钙离子通过库仑静电势相互作用，但由于CaCO3 晶体和CaSO4 晶体每一个晶面上的Ca-Ca 严格按照一定 的生长规律排列，只有当有机阻垢剂分子中功能基的空间尺度与晶面金属离子的间距匹配时，才会产生 的吸附行为，从而阻塞成垢离子的进一步沉积而抑制晶体的生长发育。

结论：①总体呈电中性的五种聚合物分子中，羧基氧原子所带 的负电荷较多，容易与无机垢晶体生长面上的Ca2+之间形成库仑相互作用；同时，AA-AMPS 共聚物中， 磺酸基团的三个氧原子所带负电荷分别为−0.8815，−0.8531 和−0.6620，POCA 分子中膦酰基基团上的三 个氧原子的负电荷分别为−0.8785，−0.6954 和−0.7512；磺酸基团的三个氧原子所带负电荷分别为−0.8773， −0.8580 和−0.6685，远比羧基氧原子上的负电荷多，从而提高了原子之间的亲和力，使POCA和AA-AMPS 共聚物的抗氧化能力、抗水解能力、耐温性能以及对锌离子的稳定性能等比单纯的聚丙烯酸有较大的改 善，这与实验结果是一致的。

HPMA工业生产中大量的循环冷却水要被反复使用,随着溶液中离子浓度的提高,水的结垢倾向增大。CaCO_3垢的沉积是工业中具挑战性的问题,因为结垢现象会引起传热效率降低、管路堵塞和设备损坏等。使用阻垢剂是应对这一问题常用的方法。采用CaCO_3沉积法考察了三种阻垢剂的静态阻垢性能,利用X射线衍射仪(XRD)对CaCO_3垢样进行晶型分析、采用扫描电镜(SEM)观察固体形貌,傅里叶红外光谱仪(FT-IR)对垢样表征。结果表明,阻垢率随着阻垢剂的投加量增大而提高,在较高浓度下三种阻垢剂都表现出了“阈值效应”;阻垢HPMA、AA/MAHPMA,其中PHPMA在80℃恒温10h下阻垢率可达95.9%;加入阻垢剂以后,CaCO_3的微观形貌发生显著变化

HPMA聚马来酸酐在敞开式循环冷却水系统运行过程中,结垢、腐蚀和微生物滋生是其面临的主要问题,这些问题会使换热效率降低,继而引发系统堵塞,不利于安全生产。关于系统结垢的处理,当前的方法主要是以化学药剂为主,但这种方法会造成二次污染。因此,需要发展一种、及低成本的阻垢技术。本论文采用电解阻垢法对敞开式循环冷却水进行处理,利用水及成垢离子在低压电场作用下的电化学特性,降低水质硬度,达到阻垢的目的