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NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机

更新时间:2025-01-22 10:45:02 信息编号:0bblt1u6e7114
NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机
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详情介绍

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机

产品别名
磁控溅射镀膜机,磁控溅射设备,磁控溅射镀膜设备,磁控溅射系统
面向地区
全国
电镀位置
其它
NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机:的全自动溅射系统带有水冷或者加热(可加热至700度)功能;8“旋转样平台,可支持到3个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过使用RF射频开关,RF射频或DC直流电源可以切换到多磁控管模式。该磁控溅射系统通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。

NSC-4000Sputter磁控溅射镀膜机产品特点:

不锈钢,铝质腔体或钟罩式耐热玻璃腔
70,250或500 l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
带观察视窗的腔门易于上下载片
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
带密码保护功能的多级访问控制
*的安全联锁
选配项:

向上、向下或侧面溅射
RF、DC以及脉冲DC溅射
共溅射、反应溅射
组合溅射
RF或DC偏压(1000V)
样品台可加热到700°C
膜厚监测仪
基片的RF射频等离子清洗
预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
应用:

晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
光学以及ITO涂覆
带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
带RF射频等离子放电的反应溅射
型号:

NSC-4000:基于PC计算机全自动控制的立式系统
NSC-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型立式系统
NSC-3000:PC计算机全自动控制的台式系统
NSC-1000:半自动控制的台式系统
(以下为双系统型号)

NSR-4000:溅射/RIE系统
NSP-4000:溅射/PECVD系统
NST-4000:溅射/热蒸发系统</a>

那诺—马斯特中国有限公司 3年

  • 磁控溅射系统,ald原子层沉积,刻蚀机,晶圆清洗设备
  • 香港香港上海市徐汇区虹梅南路126弄翡翠别墅23号

———— 认证资质 ————

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